M系列
M系列可满足以下类型用户的需求：
非常小的样品，主要应用于半导体，连接器或PCB领域
需要测试多个样品的多个位置
非常薄的涂层（<100nm）
需要在短时间内完成测量（1-5秒）
保证符合IPC-4552A，4553A，4554和4556
ASTM B568，DIN 50987和ISO 3497
渴望升级旧的XRF的性能和效率–并获得丰厚的以旧换新奖励！
非常小的样品，主要应用于半导体，连接器或PCB领域
需要测试多个样品的多个位置
非常薄的涂层（<100nm）
需要在短时间内完成测量（1-5秒）
保证符合IPC-4552A，4553A，4554和4556
ASTM B568，DIN 50987和ISO 3497
渴望升级旧的XRF的性能和效率–并获得丰厚的以旧换新奖励！
M系列 是用于最小特征的高性能电镀厚度测量的终极产品。 M系列中的多毛细管光学元件比 O系列，将 X 射线束聚焦到 7.5μm FWHM。 为了在该尺度上测量特征，包括具有更高数码变焦的 150 倍放大率相机。 随着放大倍数的增加，视野变得更加受限，因此第二台相机拍摄要测量的零件的宏观图像。 双摄像头系统允许操作员查看整个零件，单击图像以使用高磁力摄像头放大，并精确定位要测量的特征。
高精度可编程XY平台可用于选择和测量多个点; 模式识别软件也可以自动执行该操作。2-D连续扫描功能可查看硅片等部件表面区域的涂层形貌。
标准配置包括7.5μm光学器件和高分辨率SDD检测器，用于处理更高的计数率。 可编程XY样品台也是标准配置。 光学系统的焦距很近，因此使用M系列测量的样品必须平坦。
性能表现
| 镍钯金 | 化学镍 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 微米金 | 微米钯 | 微米镍 | 微米NiP | 微米％P | |
| Ave | 0.043 | 0.08 | 3.72 | 10.202 | 10.17 |
| StdDev | 0.0005 | 0.0009 | 0.00010 | 0.1089 | 0.29 |
| Range | 0.0015 | 0.0030 | 0.040 | 0.3863 | 0.9900 |
| %RSD | 1.05% | 1.13% | 0.03% | 1.07% | 2.85% |
产品规格
| X射线管： | 50W钼靶射线管 15um毛细管光学结构 |
| 探测器： | 高分辨率SDD硅漂移探测器 |
| 分析层数 及元素数： |
5层（4层+基材） 每层可分析10种元素，成分分析最多可分析25种元素 |
| 滤波器/准直器： | 4位置一次滤波器 |
| 焦距： | 固定为0.05英寸（1.27毫米） |
| 数字脉冲处理： | 4096 多通道数字处理器，自动死时间和逃逸峰校正 |
| 计算机： | 联想商用i5控制电脑(Win10 简体中文）,显示器,彩色喷墨打印机 |
| 相机： | 1/4英寸（6毫米）CMOS-1280×720 VGA分辨率，在250毫米（45英寸）屏幕上，双摄像头为381倍，单摄像头为15倍 |
| 视频放大倍率： | 250X：配备双摄像头45X：15上的单摄像头“屏幕 |
| 电源： | 150W，100-240V，频率范围为47Hz至63Hz |
| 工作环境： | 温度介于68°F（20°C）与77°F（25°C）之间，相对湿度小于98％，无冷凝 |
| 重量： | 70kg |
| 可编程XY平台： | 工作台尺寸：431毫米（17英寸）x 406毫米（16英寸）| 行程：165毫米（6.5英寸）x 165毫米（6.5英寸）高精度 现在可用 扩展 舞台选择 |
| 样品仓尺寸： | 高度：137mm（5.4"），宽度：310mm（12"），深度：340mm（13"） |
| 外形尺寸： | 高度：500mm（20"），宽度：450mm（18"），深度：600mm（24"） |
